دوره 39، شماره 1 - ( نشریه مواد پیشرفته در مهندسی- بهار 1399 )                   جلد 39 شماره 1 صفحات 99-103 | برگشت به فهرست نسخه ها

XML English Abstract Print


Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:

Zarchi M, Ahangarani S. The Role of Annealing on Properties of Silicon Films Deposited By EB-PVD. jame. 2020; 39 (1) :99-103
URL: http://jame.iut.ac.ir/article-1-904-fa.html
زرچی میثم، آهنگرانی شاهرخ. نقش عملیات آنیل بر ویژگی‌های فیلم‌های سیلیکونی ایجاد شده به‌روش EB-PVD. مواد پیشرفته در مهندسی. 1399; 39 (1) :99-103

URL: http://jame.iut.ac.ir/article-1-904-fa.html


سازمان پژوهش‌های علمی و صنعتی ایران، پژوهشکده مواد پیشرفته و انرژی‌های نو، تهران، ایران ، sky_man1983@yahoo.com
چکیده:   (622 مشاهده)

این پژوهش، به بررسی ویژگی‌های ساختاری و اپتیکی فیلم‌های چنددانه سیلیکون حاصل از اعمال تکنولوژی تبخیر پرتو الکترونی فاز بخار (EB-PVD) روی ویفر سیلیکونی، اختصاص دارد. این فیلم‌ها ابتدا آمورف بوده و طی آنیل به یک فاز جامد بلوری گذار کردند. آنیل در کوره تیوبی تحت اتمسفر گاز خنثی در دماهای مختلف انجام شد. ریزساختار فیلم‌ها برای درک ارتباط بین ترکیب بلوری / آمورف، اندازه دانه و مشخصات فیلم‌ها، مورد بررسی قرار گرفت. نتایج نشان‌دهنده کاهش زبری با افزایش دمای آنیل و افزایش تراکم ساختاری است. همچنین، نتایج حاصل از طیف میکرو رامان نشان‌دهنده تشکیل و افزایش میزان نانوبلور‌های سیلیکون در شرایط آنیل و همچنین با افزایش ضخامت پوشش بر اثر عیوب ساختاری بود.

متن کامل [PDF 507 kb]   (109 دریافت)    
نوع مطالعه: پژوهشي | موضوع مقاله: مهندسی سطح و پوشش ها
دریافت: 1396/2/10 | پذیرش: 1399/3/11 | انتشار: 1399/3/10

ارسال نظر درباره این مقاله : نام کاربری یا پست الکترونیک شما:
CAPTCHA

ارسال پیام به نویسنده مسئول


کلیه حقوق این وب سایت متعلق به نشریه علمی پژوهشی مواد پیشرفته در مهندسی می باشد.

طراحی و برنامه نویسی : یکتاوب افزار شرق

© 2020 All Rights Reserved | Journal of Advanced Materials in Engineering (Esteghlal)

Designed & Developed by : Yektaweb